【48812】国林科技:公司高浓度臭氧水设备可用于半导体光刻胶清洗
发布时间:
2024-05-26 作者: 爱游戏网页版
每经AI快讯,有投入资金的人在出资者互动渠道发问:董秘您好!贵司用于半导体清洗职业的高浓度臭氧水设备的核心技能获得打破?请问:1.该技能是否习惯第三半导体范畴?2.该技能是否习惯于半导体光刻胶产品范畴?谢谢!
国林科技(300786.SZ)8月23日在出资者互动渠道表明,敬重的出资者,您好。公司高浓度臭氧水设备可用于半导体光刻胶清洗。感谢您的重视。
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